长沙理工大学首页|云就业平台|后台管理|
院务公开|

教学动态

□ 当前位置: 学院首页 -> 正文

学院举办“碳化硅MOSFET动态阈值漂移”通识教育讲座

发布日期:2025年05月19日 来源: 作者:

516日上午,为加强本科生通识教育,电气学院在云塘校区工科一号楼B212举办以“碳化硅MOSFET动态阈值漂移为主题的通识教育讲座本次讲座由学院教师汤磊博士主讲,自动化等相关专业学生参加

汤磊指出,碳化硅(SiC)MOSFET凭借高压、高温、高频特性,已成为电动汽车、光伏系统及新型电源等领域的核心器件,但其动态阈值漂移问题严重制约工程化应用。汤磊结合自身在第三代宽禁带半导体器件可靠性领域的科研成果,系统解析了动态阈值漂移的物理机理、演化规律及优化策略,强调解决该问题对推动新能源产业高质量发展的关键意义。

在互动环节汤磊表示“功率半导体器件是能源革命的关键之一,而动态阈值漂移等可靠性问题恰是技术突破的最后一公里’”。此次讲座不仅为同学们揭示了碳化硅器件技术的前沿方向,更激发了青年学子投身科研攻关、服务国家战略的使命担当。

文、图/孙凯、王灿、龚海洋  一审/吴文斌  二审/贾智伟  三审/杨洪明

上一篇:电气学院举办“超导基础理论与应用探索”通识教育讲座 下一篇:电气学院组织召开智能电网专业人才培养方案校外专家论证会